Análise comparativa de métodos de PVD na produção de revestimentos superficiais de alta qualidade: um estudo detalhado dos processos de evaporação e Sputtering
| dc.contributor.advisor | Gianelli, Bruno Fernando | |
| dc.contributor.author | Mascai, Fábio Augusto Amaral | |
| dc.contributor.referee | Herrera, Cristhiano da Costa | |
| dc.contributor.referee | Silva, Edmilson Antonio da | |
| dc.date.accessioned | 2024-02-09T14:11:30Z | |
| dc.date.available | 2024-02-09T14:11:30Z | |
| dc.date.issued | 2023-12-15 | |
| dc.description.abstract | A Deposição Física de Vapor (Physical Vapor Deposition -PVD) é uma técnica amplamente utilizada para a aplicação de revestimentos finos em uma variedade de substratos. Este estudo visa explorar osdiversos tipos de reatores de PVD e sua influência na qualidadee desempenho dos revestimentos produzidos.Nessepresente trabalhamos, analisamosdiferentes métodossendo eles, Evaporatione Sputtering, identificando suas características, forma de trabalho e impacto nas propriedades dos filmes depositados,vantagens e desvantagens.Considerados como os parâmetrosrelacionados apressão, temperatura, taxa de deposição, e composição do vapor,durante o processo,impactamno resultadofinal. Ao final da pesquisa, foipossível destacar as melhoresopçõesdependendo da sua aplicação. | |
| dc.description.abstract2 | Physical Vapor Deposition (PVD) is a widely used technique for applying thin coatings on a variety of substrates. This study aims to explore the various types of PVD reactors and their influence on the quality and performance of the produced coatings. In this work, we analyze different methods, namely Evaporation and Sputtering, identifying their characteristics, working principles, and impact on the properties of deposited films, as well as their advantages anddisadvantages. Parameters such as pressure, temperature, deposition rate, and vapor composition, considered during the process, have an impact on the final result. At the end of the research, it was possible to highlight the best options depending on theirapplication. | |
| dc.format.mimetype | application/pdf | |
| dc.identifier.bibliographicCitation | MASCAI, F. A. A. Análise comparativa de métodos de PVD na produção de revestimentos superficiais de alta qualidade: um estudo detalhado dos processos de evaporação e Sputtering. Itapetininga, 2023. 44 f. Trabalho de Conclusão de Curso (Bacharelado em Engenharia Mecânica) - Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo, Campus Itapetininga, Itapetininga, 2023. | |
| dc.identifier.uri | https://repositorio.ifsp.edu.br/handle/123456789/468 | |
| dc.publisher | Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo (IFSP) | |
| dc.publisher.campi | ITAPETININGA | |
| dc.subject.keywords | Revestimentos - processos | |
| dc.subject.keywords | Evaporação | |
| dc.subject.keywords | Pulverização | |
| dc.title | Análise comparativa de métodos de PVD na produção de revestimentos superficiais de alta qualidade: um estudo detalhado dos processos de evaporação e Sputtering | |
| dc.type | Trabalhos de Conclusão de Curso de Graduação |