Análise comparativa de métodos de PVD na produção de revestimentos superficiais de alta qualidade: um estudo detalhado dos processos de evaporação e Sputtering

dc.contributor.advisorGianelli, Bruno Fernando
dc.contributor.authorMascai, Fábio Augusto Amaral
dc.contributor.refereeHerrera, Cristhiano da Costa
dc.contributor.refereeSilva, Edmilson Antonio da
dc.date.accessioned2024-02-09T14:11:30Z
dc.date.available2024-02-09T14:11:30Z
dc.date.issued2023-12-15
dc.description.abstractA Deposição Física de Vapor (Physical Vapor Deposition -PVD) é uma técnica amplamente utilizada para a aplicação de revestimentos finos em uma variedade de substratos. Este estudo visa explorar osdiversos tipos de reatores de PVD e sua influência na qualidadee desempenho dos revestimentos produzidos.Nessepresente trabalhamos, analisamosdiferentes métodossendo eles, Evaporatione Sputtering, identificando suas características, forma de trabalho e impacto nas propriedades dos filmes depositados,vantagens e desvantagens.Considerados como os parâmetrosrelacionados apressão, temperatura, taxa de deposição, e composição do vapor,durante o processo,impactamno resultadofinal. Ao final da pesquisa, foipossível destacar as melhoresopçõesdependendo da sua aplicação.
dc.description.abstract2Physical Vapor Deposition (PVD) is a widely used technique for applying thin coatings on a variety of substrates. This study aims to explore the various types of PVD reactors and their influence on the quality and performance of the produced coatings. In this work, we analyze different methods, namely Evaporation and Sputtering, identifying their characteristics, working principles, and impact on the properties of deposited films, as well as their advantages anddisadvantages. Parameters such as pressure, temperature, deposition rate, and vapor composition, considered during the process, have an impact on the final result. At the end of the research, it was possible to highlight the best options depending on theirapplication.
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.bibliographicCitationMASCAI, F. A. A. Análise comparativa de métodos de PVD na produção de revestimentos superficiais de alta qualidade: um estudo detalhado dos processos de evaporação e Sputtering. Itapetininga, 2023. 44 f. Trabalho de Conclusão de Curso (Bacharelado em Engenharia Mecânica) - Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo, Campus Itapetininga, Itapetininga, 2023.
dc.identifier.urihttps://repositorio.ifsp.edu.br/handle/123456789/468
dc.publisherInstituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo (IFSP)
dc.publisher.campiITAPETININGA
dc.subject.keywordsRevestimentos - Processos
dc.subject.keywordsEvaporação
dc.subject.keywordsPulverização
dc.titleAnálise comparativa de métodos de PVD na produção de revestimentos superficiais de alta qualidade: um estudo detalhado dos processos de evaporação e Sputtering
dc.typeTrabalhos de Conclusão de Curso de Graduação
Arquivos
Pacote Original
Agora exibindo 1 - 1 de 1
Carregando...
Imagem de Miniatura
Nome:
mascai_faa_tcc_itp.pdf
Tamanho:
11.39 MB
Formato:
Adobe Portable Document Format
Descrição:
Licença do Pacote
Agora exibindo 1 - 1 de 1
Carregando...
Imagem de Miniatura
Nome:
license.txt
Tamanho:
1.92 KB
Formato:
Item-specific license agreed upon to submission
Descrição: