A Deposição Física de Vapor (Physical Vapor Deposition -PVD) é uma técnica amplamente utilizada para a aplicação de revestimentos finos em uma variedade de substratos. Este estudo visa explorar osdiversos tipos de reatores de PVD e sua influência na qualidadee desempenho dos revestimentos produzidos.Nessepresente trabalhamos, analisamosdiferentes métodossendo eles, Evaporatione Sputtering, identificando suas características, forma de trabalho e impacto nas propriedades dos filmes depositados,vantagens e desvantagens.Considerados como os parâmetrosrelacionados apressão, temperatura, taxa de deposição, e composição do vapor,durante o processo,impactamno resultadofinal. Ao final da pesquisa, foipossível destacar as melhoresopçõesdependendo da sua aplicação.