Análise comparativa de métodos de PVD na produção de revestimentos superficiais de alta qualidade: um estudo detalhado dos processos de evaporação e Sputtering

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Data
2023-12-15
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Editor
Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo (IFSP)

Resumo

A Deposição Física de Vapor (Physical Vapor Deposition -PVD) é uma técnica amplamente utilizada para a aplicação de revestimentos finos em uma variedade de substratos. Este estudo visa explorar osdiversos tipos de reatores de PVD e sua influência na qualidadee desempenho dos revestimentos produzidos.Nessepresente trabalhamos, analisamosdiferentes métodossendo eles, Evaporatione Sputtering, identificando suas características, forma de trabalho e impacto nas propriedades dos filmes depositados,vantagens e desvantagens.Considerados como os parâmetrosrelacionados apressão, temperatura, taxa de deposição, e composição do vapor,durante o processo,impactamno resultadofinal. Ao final da pesquisa, foipossível destacar as melhoresopçõesdependendo da sua aplicação.


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